為什么要測量烴露點(diǎn)？

烴露點(diǎn)（HCDP）是天然氣中的一項重要測量，可確保天然氣質(zhì)量和安全操作條件，并保持處理和配送系統(tǒng)的效率。

HCDP有時被稱為“液體烴"，表示當(dāng)烴冷凝物開始形成時，天然氣從氣相進(jìn)入混合相的溫度。該參數(shù)受壓力和成分的影響，因此氣體混合物中重?zé)N的比例越高，HCDP就會越高。每種氣體成分都有其獨(dú)特的烴露點(diǎn)溫度和壓力關(guān)系，可以將其描述為相包絡(luò)上的露點(diǎn)線曲線（見下圖）。臨界凝析溫度是在壓力X下氣體開始凝析出液體的溫度。當(dāng)天然氣處理將臨界凝析溫度保持在管道低工作溫度以下時，無論壓力變化如何，氣流都不含有液態(tài)烴。

                   

如果允許這些重?zé)N成分在過程中的任何時候冷凝成液體，它們可能會產(chǎn)生幾個問題：

• 管道腐蝕和配送系統(tǒng)含有液體成為細(xì)菌腐蝕的滋生地

• 高速沖擊導(dǎo)致壓縮機(jī)葉片損壞

• 烴冷凝物對燃?xì)廨啓C(jī)燃燒器和葉片的損壞會導(dǎo)致更熱、更長的火焰

• 天然氣不符合合同質(zhì)量的風(fēng)險，可能導(dǎo)致氣體不被接收




從生產(chǎn)/分銷停工到設(shè)備故障，上述所有情況都可能帶來很大的財務(wù)影響。

什么是貧氣？

當(dāng)天然氣主要由甲烷或乙烷組成，并且不含富天然氣中正常濃度的重?zé)N時，天然氣被描述為貧氣。因此，它具有較低的熱值和明顯較低的烴露點(diǎn)。

低的烴露點(diǎn)降低了系統(tǒng)中形成烴液體的風(fēng)險，但在過程故障條件下，烴露點(diǎn)可能會上升，因此測量仍然是一項重要要求。

   

                   




為什么在貧氣中測量烴露點(diǎn)比較困難？

測量烴露點(diǎn)的主要儀器是冷鏡。該設(shè)備的工作原理是降低鏡面溫度，直到烴液體開始在鏡面上形成。烴露點(diǎn)可由熟練的操作員通過視覺或PST 密析爾的 Condumax II等自動化光學(xué)器件確定。

測量非常低的烴露點(diǎn)面臨一個特別的挑戰(zhàn)：使鏡面溫度足夠低。當(dāng)儀器達(dá)到其冷卻能力極限而鏡子上沒有形成任何烴冷凝時，就無法進(jìn)行測量。

PST提供的解決方案

Condumax II的鏡面溫度可下降約55℃，有一些測量選項可選。監(jiān)測烴露點(diǎn)非常重要，以防過程進(jìn)入故障狀態(tài)，且成分中出現(xiàn)重?zé)N。

在正常情況下，當(dāng)測量階段開始時，鏡面溫度將降至低冷卻溫度，而沒有達(dá)到觸發(fā)點(diǎn)，將顯示消息“HCdp低于冷卻極限"，表示氣體處于它的正常狀態(tài)。通過對鏡面溫度設(shè)置低冷卻極限，帕爾貼熱泵在每個測量周期內(nèi)都不會滿負(fù)荷工作，從而延長了其壽命。

如果發(fā)生氣體成分故障，例如NGL分餾過程中的故障，則在測量階段不會出現(xiàn)消息“HCdp低于冷卻極限"。相反，將記錄HCDP測量值。這將提醒工程師或集散控制系統(tǒng)（DCS）及時識別問題并采取適當(dāng)行動。

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